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真空管式电阻炉

简要描述

真空电阻炉用途:适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。

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 GR.VRF系列真空电阻炉详细介绍

GR.VRF系列真空电阻炉具有完美的性能设计,集多项于一身,安全性,可靠性,实用性均达zui佳效果。
1.炉体采用双层炉壳结构,双层炉壳之间是循环水系统,可以快速升降温,炉壳表面温度低。

2.炉门采用高温硅橡胶密封,炉门配备水冷系统。炉体上有进气口、出气口、抽真空口。
3.炉膛材料采用优质的进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成,节能50%,二面加热温场均匀。加热元件采用硅钼棒。
4.电炉温度控制系统采用人工智能调节技术,具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能,该控制系统温度显示精度为1,温场稳定度±5,升温速率1~20℃可任意设置。
5.可以通氩气、氮气等其他气体,并能预抽真空,真空度可以达到15Pa,炉体采用厚钢板加工而成,安全可靠,符合国家标准。
真空电阻炉的选配配置:
1、玻璃转子流量计和进出口管道
2、真空泵
3、安装调试,培训
4、刚玉坩埚
5、备品备件
 
GR.VRF系列真空电阻型号及规格
 
型号
炉膛尺寸(mm)
(DxH)
功率
(KW)
zui高温度
℃)
额度温度
(℃)
加热元件
电压
(V
GR.VRF4.5/16
200x150x150
7
1600
1500
硅钼棒
380
GR.VRF12/16
300x200x200
11
1600
1500
硅钼棒
380
GR.VRF36/16
400x300x300
16
1600
1500
硅钼棒
380
GR.VRF80/16
500x400x400
24
1600
1500
硅钼棒
380
 
,咨询
 
另:我公司可以根据客户具体要求进行非标设计与制造。

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